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產(chǎn)地：美國，韓國；
型號：PS-100， EURA-100;
等離子去膠機主要用于光刻膠的剝離或灰化，也可用于：
1.有機及無機殘留物的去除
2. 去除殘膠以及等離子刻蝕的應用
3.清洗微電子元件、電路板上的鉆孔或銅線框架
4.提高黏附性，消除鍵合問題
5.塑料的表面改性：O2處理以改進涂覆性能
6.產(chǎn)生親水或疏水表面等
主要配置：
1.載片(Wafers)：直徑不大于100 mm(或200mm)的各種基片
2.工藝氣體(Gas lines)：O2， N2
3.射頻源(Source)：50 ～ 500W(13.56 MHz)連續(xù)可調(diào)，全自動匹配
4.氣體流量(Gas flow)：MFC精確調(diào)控
5.產(chǎn)能：每次20片，每個循環(huán)約5分鐘（輝光1分鐘）
6.可升級到反應離子蝕刻(RIE)功能
參考用戶：
廣東工業(yè)大學等；
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