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一、整機(jī)簡(jiǎn)述 特點(diǎn)/用途 ZHD400高真空電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，配4組蒸發(fā)源；適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、鋰電池、有機(jī)膜等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等。 該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，PLC觸摸屏控制，操控方便，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等，深受廣大用戶好評(píng)。 其主要用途有： 1. 適用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜，單層/多層/復(fù)合膜，例：銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等； 2. 適用于太陽(yáng)能電池、LED的研究和實(shí)驗(yàn)； 3. 適用于有機(jī)材料等蒸發(fā)； 4. 適用于鍍制非金屬/化合物等材料薄膜；例：氧化鉬、氟化鋰等； 5. 適用于掃描電鏡制樣等。 二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) 1.真空腔室 304真空專用不銹鋼，L400×W440×H450mm；方形前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)； 2.真空系統(tǒng) 磁懸浮分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空擋板閥，“兩低一高”數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)； 3.真空指標(biāo) 極限真空優(yōu)于6.6×10-5Pa（設(shè)備空載抽真空24小時(shí)）； 設(shè)備升壓率≤0.8Pa/h； 設(shè)備保壓：停泵12小時(shí)候后，真空≤10Pa； 4.抽速 空載從大氣抽至8.0×10-4Pa≤45min； 5.基片臺(tái) 抽屜式結(jié)構(gòu)，承載小于120×120mm基片；  電機(jī)驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速度0～20轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)； 手動(dòng)升降，升降基片臺(tái)可調(diào)節(jié)范圍70mm ； 可根據(jù)要求定制1種掩膜板（客戶提供掩膜圖案）； 6.基片臺(tái)加熱 加熱溫度：300℃，PID智能溫控閉環(huán)控制； 7.蒸發(fā)源 ①金屬源：水冷銅電極 2組； 逆變式蒸發(fā)電源，功率3000W； 1臺(tái)； ②有機(jī)源：有機(jī)蒸發(fā)源（ 溫度600°），2組； 有機(jī)控溫蒸發(fā)電源：2套（獨(dú)立PID智能溫控蒸發(fā)）； ③每組蒸發(fā)源配氣動(dòng)擋板及源間防污隔板；