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高真空有機/金屬蒸發(fā)鍍膜機 ZHDS400
高真空有機/金屬蒸發(fā)鍍膜機 ZHDS400

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型號

高真空有機/金屬蒸發(fā)鍍膜機 ZHDS400

品牌

研博智創(chuàng)

產(chǎn)地

河北

樣本

暫無
研博智創(chuàng)任丘科技有限公司

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一、整機簡述 特點/用途 ZHDS400型高真空有機/金屬蒸發(fā)鍍膜機是納米薄膜沉積系統(tǒng)與手套箱系統(tǒng)的有機結(jié)合,該設(shè)備可在惰性氣體保護的環(huán)境下完成裝片、裝料及換料取片等工作,并且由于采用惰性氣體的工作環(huán)境及無油真空系統(tǒng)使鍍膜機可更快的到達高真空,獲得潔凈的真空環(huán)境;本設(shè)備共配置4組蒸發(fā)源,組合配置靈活,具備單層蒸鍍、多源共蒸、分層鍍膜等功能。 蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境無縫對接融合,實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接,穩(wěn)定性更高。廣泛應(yīng)用于有機、無機鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng);納米薄膜光電子器件制備及生產(chǎn)線前期工藝試驗等。

二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) 1.有機/金屬鍍膜室 鍍膜室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm;SUS304不銹鋼制作,方箱式,配有前、后門,前門水平滑開式,材質(zhì)為鍛鋁,便于手套箱內(nèi)操作;后門為側(cè)開門,便于設(shè)備清理維護;特點:鍍膜室配置獨立機架,可在脫離手套箱條件下單獨調(diào)試和使用,與手套箱之間通過鍍膜室前門框密封連接,對接方便、密封可靠; 2.真空系統(tǒng) 復合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空插板閥高真空系統(tǒng),“兩低一高”數(shù)顯復合真空計; 3.真空指標 極限真空:優(yōu)于5.0×10-5Pa;(設(shè)備和手套箱分體,設(shè)備空載抽真空24小時) 抽速:從大氣抽至8.0×10-4Pa≤40min; 設(shè)備升壓率:≤0.8Pa/h; 設(shè)備保壓:停泵12小時候后,設(shè)備真空度≤10Pa; 4.基片臺 抽屜式結(jié)構(gòu),承載小于120×120mm基片; 配有氣動基片臺擋板; 基片臺電機驅(qū)動,旋轉(zhuǎn)速度0~20轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào); 手動升降,升降基片臺可調(diào)節(jié)范圍70mm; 可根據(jù)用戶要求定制掩膜板1套; 5.基片臺加熱 加熱溫度:300℃,PID智能溫控閉環(huán)控制; 6.蒸發(fā)源 ①金屬源:水冷銅電極2組; 逆變式蒸發(fā)電源:功率3000W;1臺(1臺電源可切換2組蒸發(fā)源); ②有機源:控溫有機蒸發(fā)源(溫度600°),2組; 有機蒸發(fā)源特點:角度向心可調(diào)(提高材料利用率,均勻性好),蒸發(fā)速率可控; 有機控溫蒸發(fā)電源:2套(獨立PID智能溫控蒸發(fā)); ③蒸發(fā)源配氣動擋板及源間防污隔板;  7.膜厚控制系統(tǒng)  選配  8.控制方式  采用PLC+觸摸屏半自動控制;  9.報警及保護  對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應(yīng)保護措施;完善的邏輯程序互鎖保護系統(tǒng)。  10.占地面積 L4800mm×W1600mm×H1900mm(含1.8米手套箱)

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