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高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP650
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP650

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型號

高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP650

品牌

北京泰科諾

產(chǎn)地

北京

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北京泰科諾科技有限公司

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基片臺尺寸:抽屜式:150mm×120mm 可旋轉(zhuǎn)、升降

膜厚不均勻性:≤ ±5.0%(120mmx120mm 范圍內(nèi))

濺射靶:6英寸3只

濺射靶電源:1臺RF,2臺DC

控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )

占地面積:L2500mmxW1600mmxH1900mm ( 不含手套箱 )

總功率:≥15kW 三相五線制


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