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真空退火爐/釬焊爐VTHK350品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱：真空退火 / 釬焊爐
設(shè)備型號(hào)：VTHK350
真空腔室結(jié)構(gòu)：不銹鋼雙層水冷
真空腔室尺寸：Φ350mm×L550mm
爐膛尺寸：Φ120mm×L300mm
等溫區(qū)尺寸：Φ120mm×L120mm
加熱溫度：室溫～ 1200℃，可調(diào)可控
控制方式：PLC 控制 / 工控機(jī)全自動(dòng)控制（可選）
占地面積：L1200mm×W600mm×H1550mm
總功率：≥ 20kW
適用范圍：廣泛用于高校、科研院所及企業(yè)的研發(fā)小批量生產(chǎn)
產(chǎn)品特點(diǎn)：高真空度、高加熱溫度、高控制精度、高穩(wěn)定性
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磁控濺射設(shè)備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領(lǐng)域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個(gè)有點(diǎn)拗口的名字取自俄羅斯礦物學(xué)家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實(shí)際上和鈣、鈦、礦三個(gè)字都沒太大關(guān)系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結(jié)構(gòu)類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng)，碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成膜先驅(qū)物，當(dāng)樣品溫度合適時(shí)，這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
多晶硅和單晶硅都是半導(dǎo)體材料，是電子工業(yè)中非常重要的材料，但它們的制備工藝、物理性質(zhì)以及應(yīng)用領(lǐng)域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積（ALD）是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術(shù)。原子層沉積在新興的半導(dǎo)體和能源轉(zhuǎn)換技術(shù)中顯示出巨大的前景?；谶B續(xù)的自限性反應(yīng)，ALD在高縱橫比結(jié)構(gòu)上提供了出色的保形性，在埃級(jí)的厚度控制
全球數(shù)字經(jīng)濟(jì)發(fā)展如火如荼，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的支撐作用更加突出。物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、汽車電子、智能手機(jī)、智能穿戴、云計(jì)算、大數(shù)據(jù)和安防電子等應(yīng)用領(lǐng)域的強(qiáng)勁需求推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)大，導(dǎo)致本輪半導(dǎo)體景氣周期超
真空退火爐/釬焊爐VTHK350的工作原理介紹？真空退火爐/釬焊爐VTHK350的使用方法？真空退火爐/釬焊爐VTHK350多少錢一臺(tái)？真空退火爐/釬焊爐VTHK350使用的注意事項(xiàng)真空退火爐/釬焊爐VTHK350的說(shuō)明書有嗎？真空退火爐/釬焊爐VTHK350的操作規(guī)程有嗎？真空退火爐/釬焊爐VTHK350的報(bào)價(jià)含票含運(yùn)費(fèi)嗎？真空退火爐/釬焊爐VTHK350有現(xiàn)貨嗎？真空退火爐/釬焊爐VTHK350包安裝嗎？
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