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鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設(shè)備ZDF3200品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
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1. 技術(shù)先進、設(shè)計優(yōu)化，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護成本低。
2.大面積，復合型，批量制備，潔凈真空不同功能復合涂層制備，可獲得更高電池轉(zhuǎn)換效率。
3.廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池及復合功能薄膜材料制備等應用。
設(shè)備名稱：鈣鈦礦大面積蒸發(fā)設(shè)備
設(shè)備型號：ZDF3200（單片/多片）
鍍膜方式：線源蒸發(fā)
真空腔室結(jié)構(gòu)：臥式方箱結(jié)構(gòu)
真空腔室尺寸：L810mm×W700mm×H670mm（鍍膜室）
極限真空：優(yōu)于5.0x10-?Pa
基片臺尺寸：330mm×420mm
基片溫度：80℃以下
膜厚不均勻性：≤±5.0%（330mmx420mm范圍內(nèi)）
蒸發(fā)源：高低溫線性蒸發(fā)源
膜厚監(jiān)控系統(tǒng)：國產(chǎn)或進口多探頭（可選）
控制方式：PLC + 觸摸屏控制
占地面積：L3200mm×W2000mm×H1800mm
總功率：≥40KW
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磁控濺射設(shè)備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領(lǐng)域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關(guān)系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結(jié)構(gòu)類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發(fā)生化學反應，生成膜先驅(qū)物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
多晶硅和單晶硅都是半導體材料，是電子工業(yè)中非常重要的材料，但它們的制備工藝、物理性質(zhì)以及應用領(lǐng)域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積（ALD）是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術(shù)。原子層沉積在新興的半導體和能源轉(zhuǎn)換技術(shù)中顯示出巨大的前景?；谶B續(xù)的自限性反應，ALD在高縱橫比結(jié)構(gòu)上提供了出色的保形性，在埃級的厚度控制
全球數(shù)字經(jīng)濟發(fā)展如火如荼，半導體產(chǎn)業(yè)的支撐作用更加突出。物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、汽車電子、智能手機、智能穿戴、云計算、大數(shù)據(jù)和安防電子等應用領(lǐng)域的強勁需求推動半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴大，導致本輪半導體景氣周期超
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