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真空電弧爐VDK250品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
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設備名稱：真空電弧爐
設備型號：VDK250
真空腔室結(jié)構(gòu)：不銹鋼雙層水冷
真空腔室尺寸：Φ250mm×H350mm
爐膛尺寸：Φ250mm×H350mm
等溫區(qū)尺寸：碳材料：Φ8mm
控制方式：手動控制
占地面積：L1600mm×W800mm×H1700mm
總功率：≤ 21kW
設備占地小，簡單易操作
主要用途：自耗式電弧爐，專用于富勒烯、 金屬富勒烯、碳納米管的生產(chǎn)。
暫無數(shù)據(jù)！
磁控濺射設備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關(guān)系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結(jié)構(gòu)類
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多晶硅和單晶硅都是半導體材料，是電子工業(yè)中非常重要的材料，但它們的制備工藝、物理性質(zhì)以及應用領域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積（ALD）是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術(shù)。原子層沉積在新興的半導體和能源轉(zhuǎn)換技術(shù)中顯示出巨大的前景?；谶B續(xù)的自限性反應，ALD在高縱橫比結(jié)構(gòu)上提供了出色的保形性，在埃級的厚度控制
全球數(shù)字經(jīng)濟發(fā)展如火如荼，半導體產(chǎn)業(yè)的支撐作用更加突出。物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、汽車電子、智能手機、智能穿戴、云計算、大數(shù)據(jù)和安防電子等應用領域的強勁需求推動半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴大，導致本輪半導體景氣周期超
真空電弧爐VDK250的工作原理介紹？真空電弧爐VDK250的使用方法？真空電弧爐VDK250多少錢一臺？真空電弧爐VDK250使用的注意事項真空電弧爐VDK250的說明書有嗎？真空電弧爐VDK250的操作規(guī)程有嗎？真空電弧爐VDK250的報價含票含運費嗎？真空電弧爐VDK250有現(xiàn)貨嗎？真空電弧爐VDK250包安裝嗎？
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