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四方儀器 原位激光過程氣體分析儀(單端式)
四方儀器 原位激光過程氣體分析儀(單端式)

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型號

GasTDL-3100-

品牌

四方儀器

產(chǎn)地

湖北武漢

樣本

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四方光電(武漢)儀器有限公司

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原位激光過程氣體分析儀(單端式)產(chǎn)品介紹

GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)的高性能光學(xué)分析儀器,無需采樣預(yù)處理系統(tǒng),能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環(huán)境下進行原位氣體濃度測量。

原位激光過程氣體分析儀(單端式)產(chǎn)品特性

采用TDLAS技術(shù),被測氣體不受背景氣體交叉干擾

單端開孔,無需對光;直插式設(shè)計,極大簡化了安裝調(diào)試

無需采樣預(yù)處理系統(tǒng),實時快速測量

內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)氣體參比模塊,動態(tài)補償,實時鎖住吸收譜線,不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響

可用于惡劣工業(yè)環(huán)境中,抗化學(xué)腐蝕、高粉塵、高水分

原位激光過程氣體分析儀(單端式)技術(shù)參數(shù)

性能參數(shù)
測量組分O2、CO2、CO、CH4(可定制)
測量原理TDLAS
測量范圍0~2%VOL(可定制)
精度≤±1%F.S.
重復(fù)性≤±1%
分辨率0.01%VOL
響應(yīng)時間T90≤4s
工作參數(shù)
環(huán)境溫度-20~60℃
工作電源24V DC
吹掃氣源0.3~0.8MPa工業(yè)氮氣
接口信號
通訊接口RS-485
輸出模式4~20mA


創(chuàng)新點

采用TDLAS技術(shù),被測氣體不受背景氣體交叉干擾
單端開孔,無需對光;直插式設(shè)計,極大簡化了安裝調(diào)試
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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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