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Esther E320R主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運行。該設備主要由傳輸系統(tǒng)模塊、工藝腔室模塊、壓力控制模塊等組成。精準的壓力、氣流場與溫場控制，保證了外延片良好的工藝性能，保證成膜質量。傳輸模塊可兼容多種晶圓尺寸，同時滿足多種類的工藝需求。
設備特點
?專業(yè)的氣流場和溫度場設計，獲得良好的工藝性能
?高精度的壓力控制系統(tǒng)，保證成膜質量
?穩(wěn)定的傳輸和電機升降系統(tǒng)，保證工藝結果一致性
?友好的人機交互和全面的安全性設計，保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效
?具有單腔和多腔兩種機型，可滿足不同客戶需求
產(chǎn)品應用
?晶圓尺寸：6/8英寸兼容
?適用材料：硅
?適用工藝：體硅外延、埋層外延、選擇性外延
?適用領域：集成電路、功率半導體、襯底材料、科研領域