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CVD-Quadiance6/8吋薄膜沉積設備品牌
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Quadiance 系統(tǒng)適用于6/8 氧化硅、氮化硅、氮氧硅介質(zhì)層等薄膜沉積工藝。平臺采用多腔體架構，每個腔體可以實現(xiàn)2片晶圓同時工藝，提升系統(tǒng)WPH。廣泛應用于集成電路，化合物半導體，功率半導體以及MEMS等領域。
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