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澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)(EBL)采用場發(fā)射電子槍,配合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨光刻。該系統(tǒng)標(biāo)配高精度激光干涉樣品臺,允許用戶實(shí)現(xiàn)大行程高精度拼接和套刻需求,在新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電子、光子、量子研究領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。
產(chǎn)品特色
▲ 激光干涉樣品臺:先進(jìn)的激光干涉樣品臺,滿足大行程高精度拼接和套刻需求
▲ 場發(fā)射電子槍:高分辨場發(fā)射電子槍是光刻質(zhì)量的重要保證
▲ 圖形發(fā)生器:在保證超高速掃描的同時實(shí)現(xiàn)超高分辨率圖案繪制
樣品臺指標(biāo)
應(yīng)用案例
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