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鈣鈦礦太陽能電池磁控鍍膜設(shè)備JCPS400品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱：鈣鈦礦太陽能電池磁控濺射設(shè)備（鍍膜機+手套箱復合型）
設(shè)備型號：JCPS400
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結(jié)構(gòu)：SUS304方箱式，配有前、后門
真空腔室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm
加熱溫度：室溫～500℃
基片臺尺寸：抽屜式：120mm×120mm可旋轉(zhuǎn)、升降
膜厚不均勻性：≤±5.0%（100mmx100mm范圍內(nèi)）
蒸發(fā)源/濺射靶：3/4 英寸靶：2-3只 DC/RF電源及偏壓電源
晶振膜厚監(jiān)控儀：國產(chǎn)或進口（可選）
控制方式：PLC/PC控制（可選）
占地面積：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
總功率：≥8kW 三相五線制
1.國內(nèi)技術(shù)**、市場占有率**，設(shè)計優(yōu)化，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；
2.適用于磁控濺射與手套箱環(huán)境有機融合，實現(xiàn)制備、封裝、測試等工藝無縫對接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池 /OPV 有機太陽能電池及 OLED薄膜等研究系統(tǒng)等。
3.磁控主要是濺射氧化鎳，制備空穴層，濺射ITO制備透明電極，濺射Cu，制備背電極
暫無數(shù)據(jù)！
磁控濺射設(shè)備的主要用途：1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；2.裝飾領(lǐng)域：各種全反射膜及半透明膜等；3.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦（perovskite），這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski，作為光伏材料的鈣鈦礦，實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關(guān)系，這是一類與鈣鈦礦（CaTiO3）晶體結(jié)構(gòu)類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng)，碳氫化合物在高溫下發(fā)生化學反應(yīng)，生成膜先驅(qū)物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
多晶硅和單晶硅都是半導體材料，是電子工業(yè)中非常重要的材料，但它們的制備工藝、物理性質(zhì)以及應(yīng)用領(lǐng)域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積（ALD）是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術(shù)。原子層沉積在新興的半導體和能源轉(zhuǎn)換技術(shù)中顯示出巨大的前景。基于連續(xù)的自限性反應(yīng)，ALD在高縱橫比結(jié)構(gòu)上提供了出色的保形性，在埃級的厚度控制
全球數(shù)字經(jīng)濟發(fā)展如火如荼，半導體產(chǎn)業(yè)的支撐作用更加突出。物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、汽車電子、智能手機、智能穿戴、云計算、大數(shù)據(jù)和安防電子等應(yīng)用領(lǐng)域的強勁需求推動半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴大，導致本輪半導體景氣周期超
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