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設(shè)備型號：ZHD600
鍍膜方式：多源蒸發(fā)鍍膜
真空腔室結(jié)構(gòu)：立式圓柱前開門
真空腔室尺寸：Φ650mm×H800mm
加熱溫度：室溫～ 300℃
基片臺尺寸：平板或傘罩型
膜厚不均勻性：≤ ±5.0%
蒸發(fā)源：2-3 組金屬蒸發(fā)源
控制方式：PLC/PC（可選）
占地面積：主機 L1000mm×W1200mm×H1900mm
總功率：≥ 12kW

大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備 。

1. 設(shè)備一體化設(shè)計，占地面積小，性價比高，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；

2. 設(shè)備配備多組蒸發(fā)源，兼容有機蒸發(fā)與無機蒸發(fā) , 多源共蒸獲得復(fù)合膜。設(shè)計專業(yè)，功能強大，性能穩(wěn)定；

3. 適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等。