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高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600

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型號

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設備TEMD600

品牌

北京泰科諾

產(chǎn)地

北京

樣本

暫無
北京泰科諾科技有限公司

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設備型號:TEMD600
鍍膜方式:E 型電子槍
真空腔室結(jié)構:立式圓柱形側(cè)開門結(jié)構,后置抽氣系統(tǒng)
真空腔室尺寸:Φ600mm×H750mm
加熱溫度:室溫~ 300℃
基片臺尺寸:平板型 Φ350mm,或球罩型基片臺 ( 可選 )
膜厚不均勻性:≤ ±5.0%
考夫曼離子源:可選
蒸發(fā)源:電子槍 10KW,6穴坩堝,國產(chǎn)/進口(可選), 配2套電阻蒸發(fā)
控制方式:PLC/PC(可選)
占地面積:L2500mm×W1600mm
總功率:≥ 17kW

適用范圍.jpg


大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。


特點用途.jpg


1. 設備一體化設計,占地面積小,性價比高,性能穩(wěn)定,使用維護成本低;

2. 可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等;   

3. 實驗室制備導電薄膜、半導體膜、光學薄膜等,可同手套箱復合使用。


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