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粉體鍍膜設備JGCF350品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設備名稱:粉體鍍膜設備
設備型號:JGCF350
鍍膜方式:磁控濺射
真空腔室結(jié)構(gòu):Φ350mmxH350mm
粉體 / 顆粒尺寸:≥ 10um
物料裝載:托盤震動
產(chǎn)量:3-10g
加熱烘烤:可選
濺射源 :2 英寸圓形平面靶 1-2 只
占地面積:L1620mm×W1060mm×H1900mm
總功率:≥ 8kW
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )
報警及保護系統(tǒng):完善的邏輯程序互鎖保護系統(tǒng)
1. 在微米級以上粉體顆粒表面沉積各種納米級單層及多層導電膜、半導體膜、絕緣膜等;
2. 系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面金屬化,達到表面導電,例:碳化硅表面鍍鈦,氧化鋁表面鍍鎳等 ;
3. 系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面反射率的改變,應用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料,
例:玻璃微珠鍍氧化鈦等;
4. 系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面層成份改變,應用于新型合金材料改變其中某一成份含量;
5. 系統(tǒng)可用于粉體顆粒表面沉積新材料,有效提高粉體固化粘結(jié)強度,例:金剛石粉鍍鉻等
6. 廣泛應用于粉體燒結(jié)、3D 打印原材料、粉體表面光學性能改變等行業(yè)及研究方向。
我公司**技術(shù),粉體顆粒涂覆技術(shù)國內(nèi)**,微米級粉體包覆率大于 90%,結(jié)合力好;
已能實現(xiàn)產(chǎn)品系列化滿足科研及批量化生產(chǎn)之需求。
暫無數(shù)據(jù)!
磁控濺射設備的主要用途:1.功能性薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;2.裝飾領域:各種全反射膜及半透明膜等;3.微電子領域:在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應用在化學氣相沉積
什么是鈣鈦礦鈣鈦礦(perovskite),這個有點拗口的名字取自俄羅斯礦物學家Perovski,作為光伏材料的鈣鈦礦,實際上和鈣、鈦、礦三個字都沒太大關(guān)系,這是一類與鈣鈦礦(CaTiO3)晶體結(jié)構(gòu)類
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應,碳氫化合物在高溫下發(fā)生化學反應,生成膜先驅(qū)物,當樣品溫度合適時,這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻,膜層致密。CV
多晶硅和單晶硅都是半導體材料,是電子工業(yè)中非常重要的材料,但它們的制備工藝、物理性質(zhì)以及應用領域有所不同。晶體是由原子、離子或分子在三維空間中按照一定的周期性排列而形成的固體。這種有序的排列賦予晶體特
原子層沉積(ALD)是一種能夠從氣相中沉積各種薄膜材料的技術(shù)。原子層沉積在新興的半導體和能源轉(zhuǎn)換技術(shù)中顯示出巨大的前景?;谶B續(xù)的自限性反應,ALD在高縱橫比結(jié)構(gòu)上提供了出色的保形性,在埃級的厚度控制
全球數(shù)字經(jīng)濟發(fā)展如火如荼,半導體產(chǎn)業(yè)的支撐作用更加突出。物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、汽車電子、智能手機、智能穿戴、云計算、大數(shù)據(jù)和安防電子等應用領域的強勁需求推動半導體產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴大,導致本輪半導體景氣周期超