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Primo SSC AD-RIE?品牌
中微公司產(chǎn)地
上海樣本
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Primo SSC AD-RIE?是中微于2013年推出的單反應(yīng)臺(tái)電介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品,在Primo AD-RIE?產(chǎn)品技術(shù)和Primo平臺(tái)概念的基礎(chǔ)上,通過在一個(gè)平臺(tái)上集成六個(gè)單反應(yīng)臺(tái)以優(yōu)化產(chǎn)能。除了可獨(dú)立輸運(yùn)氣體的單反應(yīng)臺(tái)腔體設(shè)計(jì)以外,為應(yīng)對(duì)2x納米以下特別是接觸孔刻蝕等關(guān)鍵制程的挑戰(zhàn),該設(shè)備還具有以下特性:同步脈沖射頻系統(tǒng)、可冷卻聚焦環(huán)工藝組件和甚低壓氣體抽運(yùn)系統(tǒng)等。Primo SSC AD-RIE有利于處理多層薄膜刻蝕的微負(fù)載問題、極端邊緣形貌問題以及接觸孔刻蝕的終端控制問題。Primo SSC AD-RIE已在主流客戶16納米芯片生產(chǎn)線上穩(wěn)定量產(chǎn)。
具有獨(dú)立氣體輸運(yùn)系統(tǒng)的單反應(yīng)臺(tái)腔體設(shè)計(jì)
多區(qū)氣體調(diào)節(jié)以及雙區(qū)靜電吸盤溫度控制
高抽氣率,大容量分子泵
雙級(jí)同步脈沖射頻系統(tǒng)(低頻和高頻)
可冷卻聚焦環(huán)工藝組件,提升晶圓邊緣性能
高上下電極面積比,以應(yīng)用于高深寬比結(jié)構(gòu)刻蝕
高電介質(zhì)材料刻蝕速率,多手段刻蝕均勻度調(diào)節(jié) 雙級(jí)同步脈沖射頻系統(tǒng) 先進(jìn)氣體抽運(yùn)系統(tǒng),以進(jìn)一步擴(kuò)大工藝窗口 中高深寬比結(jié)構(gòu)刻蝕的低成本解決方案競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)
暫無數(shù)據(jù)!