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Primo iDEA?雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕除膠一體機(jī)品牌
中微公司產(chǎn)地
上海樣本
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Primo iDEA?(即“雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕除膠一體機(jī)”)源于中微的一個(gè)新理念,即:將一個(gè)或兩個(gè)雙反應(yīng)臺(tái)D-RIE或AD-RIE工藝模塊、和一個(gè)遠(yuǎn)程等離子體源除膠器(DsA)反應(yīng)腔整合在同一個(gè)平臺(tái)上。中微的遠(yuǎn)程等離子體源除膠器采用了雙反應(yīng)臺(tái)腔體設(shè)計(jì),頂置的遠(yuǎn)程等離子體源(RPS)產(chǎn)生的活性反應(yīng)物質(zhì),被均勻地輸送到晶圓表面以移除光刻膠。這種方法能夠提高光刻膠移除效率,并降低等離子體直接接觸晶圓的機(jī)會(huì)。這對(duì)于一些客戶來說尤為重要,其芯片器件對(duì)表面電荷極其敏感,存在等離子體誘發(fā)損傷(PID)的潛在風(fēng)險(xiǎn)。為了解決這方面的顧慮,客戶通常要付出巨大的人力和物力修改整合方案,或者為每個(gè)步驟(例如光刻膠移除)添置專用設(shè)備。擁有Primo iDEA整合系統(tǒng)后,客戶可以在同一個(gè)平臺(tái)上靈活地進(jìn)行芯片刻蝕和光刻膠移除,顯著減少設(shè)備占地面積,提高生產(chǎn)效率。Primo iDEA提供了具有成本優(yōu)勢(shì)的解決方案。
為芯片刻蝕和光刻膠移除提供創(chuàng)新的整合解決方案
遠(yuǎn)程等離子體源 高效率除膠 高效離子隔濾,以避免對(duì)器件造成等離子體誘發(fā)損傷產(chǎn)品特點(diǎn)
雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕與除膠整合一體機(jī),顯著減小占地面積 使用Primo iDEA?系統(tǒng)設(shè)計(jì)以代替單獨(dú)的刻蝕和除膠系統(tǒng),節(jié)省成本20%以上競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)
暫無數(shù)據(jù)!